Titanium-sputtermål med høj renhed

Når du har brug for stabile,-højtydende tynde film til halvleder-, optisk eller industriel belægning, bestemmer din sputtermålkvalitet alt.

Ti-forstøvningsmål er det primære kildemateriale, der bruges i magnetronforstøvning (PVD) til at afsætte rent titanium, TiN, TiAlN og funktionelle titanium-baserede film på dine substrater.

Ti målSpecifikationer

Punkt	Specifikation
Materiale	Kommercielt rent titanium (Grade 1, Grade 2) eller titanlegeringer
Renhed	3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%), 5N (99,999%) for halvledere
Tæthed	Større end eller lig med 4,51 g/cm³
Urenheder kontrolleret	Fe, Cr, Ni, O, N, C, H (kontrolleret pr. renhedsgrad)
Former	Runde, rektangulære, roterende (cylindriske), tilpassede profiler
Størrelse	Ø50 – Ø300 mm, tykkelse 3–10 mm, længde: 4000 mm
Bindingsmuligheder	Kobber eller aluminium bagplade, mekanisk fastspænding, monolitisk
Overfladefinish	Maskinbearbejdet, sandblæst, poleret, syre-renset, vakuumpakket

Typer af Ti Sputtering-mål, du kan vælge

Ingen.	Materiale	Sammensætning	Nøglefunktioner	Typiske applikationer
1	CP Titanium (Gr1 / Gr2)	Større end eller lig med 99,5 % Ti	Lave urenheder, stabil sputtering	Elektronik, dekorative belægninger
2	Titanium med høj renhed (4N / 5N)	Større end eller lig med 99,99 % Ti	Ultra-rene film	Halvleder, optiske belægninger
3	Ti-6Al-4V mål	Ti-6Al-4V	Legeringsfilmaflejring, høj styrke	Funktionelle og strukturelle belægninger
4	TiAl / TiAl₃-mål	30-50% Al	Producerer TiAlN super-hårde belægninger	Skæreværktøj, forme
5	TiN Keramisk Mål	Ti + N	Deponerer guld-farvede TiN-film	Slidstyrke, dekorative belægninger
6	TiSi₂-mål	Ti:Si ≈ 1:2	Silicidfilm med lav resistivitet	Halvlederkontakter og porte

Sådan fremstilles dine titanmål

Vakuumsmeltning

Fjerner gas og metalliske urenheder

Varm isostatisk presning (HIP)

Eliminerer intern porøsitet og forbedrer tætheden

CNC præcisionsbearbejdning

Garanterer dimensionel nøjagtighed og fladhed

Ultra-ren emballage

Vakuum- eller nitrogenforsegling forhindrer oxidation og forurening

Dette sikrer, at du får høj-densitet, lav-partikel og stabil sputterydeevne hver gang.

Hvad du skal angive ved bestilling

For at få det nøjagtige mål, du har brug for, skal du blot angive:

Materiale og kvalitet (Ti 99,99%, Ti-6Al-4V, TiAl osv.)
Form (rund, rektangulær, roterende, brugerdefineret)
Størrelse og tolerance (diameter × tykkelse eller længde × bredde × tykkelse)
Nødvendige renheds- og urenhedsgrænser
Overflade rengøring og emballage
Mængde og mål for leveringsdato
Dit sputtersystem model og applikation

FAQ

1. Hvad er leveringstiden for ti sputtering-mål?

Standardstørrelser: Sendes inden for 2 uger

Brugerdefinerede mål: 2-4 uger, afhængig af størrelse, renhed og bindingsmetode

2. Kan du tilpasse titanium-sputtering-mål?

Ja. Du kan tilpasse dine mål fuldt ud, herunder:

Dimensioner og tykkelse
Renhed og legeringssammensætning
Overfladefinish og rengøringsniveau
Bagplade eller monteringsmetode

3. Hvor dine Titanium-mål bruges

Halvledere: ledende lag, IC-kontaktfilm
Optiske belægninger: anti-refleksfilm og dekorative film
Industrielle PVD-belægninger: TiN, TiAlN, slidbestandige-lag
Biler, rumfart og energi: højtydende-funktionelle belægninger

Få dine titaniumsputteringsmål fra en betroet producent

Om du har brug forstandard titanium målellerfuldt tilpassede mål for høj-renhed, Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd. er klar til at støtte dine belægningsprojekter med hurtig respons, stabil kvalitet og konkurrencedygtige priser.

Send os dine målspecifikationer i dag, og du vil modtage enteknisk tilbud og leveringstid inden for 24 timer.

📩 Kontakt osnu for at få dine sputtermål skræddersyet til dit PVD-system.

Populære tags: titanium sputtering mål, Kina titanium sputtering mål producenter, leverandører, fabrik

Titanium sputtering mål