Produkter
Titanium mål
video
Titanium mål

Titanium mål

Råvarestandard: ASTM B265 / ASTM B348 / F67/136, DIN, AMS
Tilgængelige kvaliteter: Gr1 / Gr2 / Gr5 /Gr7
Overholdelse: ISO 9001 / AS9100
Former: runde mål, rektangulære/plane mål, rørmål, special-formede og trinvise mål
Størrelse: Tilpasset i henhold til tegninger eller tekniske specifikationer

 

Hvad er et titanium-mål?

 

Ti target er et titaniummateriale med høj -renhed (større end eller lig med 99,5 % Ti), der bruges i PVD- og sputtersystemer til at afsætte tynde titanium- eller titanium--baserede film på underlag.

Titanium sputtering target

Det er fremstillet gennem avanceret smeltning, smedning og præcisionsbearbejdning for at opnå høj tæthed, finkornet struktur og stabil sputterydeevne.

 

De bruges almindeligvis i halvlederfremstilling, LCD- og OLED-skærme, hukommelseselektroder, optiske belægninger og dekorative PVD-belægninger, fordi de giver fremragende filmadhæsion, korrosionsbestandighed og belægningsensartethed.

Fysiske og kemiske egenskaber ved Ti-mål

 

 

Ejendom

Typisk værdi

Tæthed

4,50 – 4,52 g/cm³

Smeltepunkt

1668 ± 5 grader

Renhed

99.5% – 99.99% (2N5 – 4N)

Termisk udvidelse

8.6 × 10⁻⁶ / K

Mikrostruktur og intern kvalitet

Massefylde større end eller lig med 99,5 %

Ensartet fin-kornstruktur

Ingen delaminering

Ingen synlige indeslutninger

Ingen porøsitet eller revner

Emballage

Vakuumforseglet + tørremiddel + stødsikker- trækasse

Leveringstid

2-4 uger for de fleste størrelser

Ti Target Størrelsesområde

 

Plane og runde mål

Type

Tykkelse

Bredde / Diameter

Rektangulært mål

Større end eller lig med 0,125 tomme

Mindre end eller lig med 12 tommer

Rundt mål

Større end eller lig med 0,125 tomme

1,0" – 21,0" (25,4 - 533,4 mm)

Rørmål

Større end eller lig med 0,125 tomme

Mindre end eller lig med 12 tommer

Overfladeruhed

  • Sputteringsoverflade: Ra Mindre end eller lig med 1,6 μm
  • Ikke-forstøvningsoverflade: Ra Mindre end eller lig med 3,2 μm
High purity titanium target
Kvalitetskontrol og inspektion
  • Kemisk sammensætningsanalyse
  • Test af mekaniske egenskaber
  • Dimensionel og visuel inspektion

Om nødvendigt kan du modtage:

  • Mølletestcertifikat (MTC)
  • Inspektionsrapporter

Brugerdefinerede Titanium-målegenskaber

 

Du kan tilpasse mål fuldt ud:

1. Renhedsindstillinger

Fra 99,5 % op til 99,999 %

2. Størrelse & Tykkelse

  • Ikke-standardstørrelser understøttes
  • Minimum bearbejdningstykkelse: 1 mm

3. Kornstørrelseskontrol

  • Styres af varmebehandling
  • 20 – 200 μm kornstørrelse tilgængelig

4. Bonded Targets

Du kan vælge bagplader i:

  • Kobber (Cu)
  • Aluminium (Al)
  • Molybdæn (Mo)

5. Overfladebehandling

Drejning,Slibning,polering,Sandblæsning

6. Komplekse former

trinvise mål,Segmentér-bundne mål,Særlige konturer

Custom Titanium Target

Titanium Target ofte stillede spørgsmål

Kan titanium-forstøvningsmål bruges til sputtering med høj-temperatur eller høj-effekt?

Ja.
Ti-mål med høj-renhed er velegnet til de fleste høj-temperaturforstøvning.
Til ekstreme strømbelastninger eller kontinuerlig industriel produktion giver Grade 5 (Ti-6Al-4V) mål højere mekanisk styrke og termisk stabilitet.

Kan titanium sputtering-mål eksporteres internationalt?

Ja.
Du kan sende med fly, sø eller ekspres (DHL, FedEx, UPS).
Al eksportemballage er anti-slagsikker, fugtsikker-og oxidations-beskyttet.

Hvad er forskellen mellem mål og Titanium PVD mål?

Titanium PVD-mål er optimeret specifikt til høj-præcisionssputtering, hvilket giver bedre afsætningseffektivitet og ensartet film. Standardmål er mere alsidige og velegnede til en bredere vifte af industrielle belægningsapplikationer, selvom de ikke altid er optimeret til ultra-høj--PVD-systemer.

 

 

 

 

Produktionsproces

 

Titanium Target Process

 

 

 

Populære tags: titanium mål, Kina titanium mål producenter, leverandører, fabrik

Send forespørgsel